低溫等離子環(huán)保設(shè)備使用

更新時(shí)間：2024-05-07

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一、設(shè)備概述

低溫等離子是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

二、設(shè)備應(yīng)用范圍

1）主要運(yùn)用于化工、造紙業(yè)、制藥業(yè)、食品業(yè)、輪胎及橡膠生產(chǎn)廠、汽車生產(chǎn)、油漆噴涂、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業(yè)、印刷業(yè)、香料生產(chǎn)業(yè)、飼料及飼養(yǎng)場(chǎng)、農(nóng)藥生產(chǎn)以及煙草業(yè)等等多個(gè)領(lǐng)域的異味和惡臭處理。

2）涉及氣體物質(zhì)多達(dá)900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烷烴以及醚類等。

三、設(shè)備原理

過程一：高能電子的直接轟擊

過程二：O原子或臭氧的氧化O2+e--2O-

過程三：OH自由基的氧化H2O+e--OH+H H2O+O--2OH H+O2--OH+O

過程四：分子破片+氧化的反應(yīng)

低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)優(yōu)勢(shì)

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低溫等離子環(huán)保設(shè)備使用